Luanda - Le ministre angolais des Relations Extérieures, Téte António, se trouve depuis samedi à New York, aux États-Unis d'Amérique, pour se joindre à la délégation présidentielle qui, du 22 au 30 septembre, participera au Débat de Haut Niveau de la 79e session de l'Assemblée générale des Nations Unies.
À son arrivée, à l'aéroport international de Teterboro, le chef de la diplomatie angolaise a été reçu par le représentant permanent de l'Angola auprès des Nations Unies, Francisco José da Cruz, et par l'ambassadeur d'Angola aux USA, Agostinho Van-Dúnem.
Le Débat de haut niveau de la 79e session de l'Assemblée générale des Nations Unies abordera, entre autres questions, la gouvernance mondiale, la jeunesse et les générations futures, la science et la technologie, ainsi qu’analysera les transformations technologiques au service du bien commun et de lhumanité.
L'événement se concentrera également sur la promotion de solutions multilatérales fondées sur la Charte des Nations Unies et sur l'accélération des efforts visant à mettre en œuvre l'Agenda 2030 et les Objectifs de développement durable.
Les priorités comprennent le soutien à la paix et à la sécurité internationales, la promotion du développement durable, la lutte contre le changement climatique, la perte de biodiversité et contre la pollution.
Le Débat de haut niveau de l'Assemblée générale des Nations Unies réunira des chefs d'État et de gouvernement des 193 pays membres de l'organisation pour relever les défis critiques et les lacunes de la gouvernance mondiale mises en évidence par les récents chocs internationaux. ART/LUZ
